よくあるご質問

合成・反応装置ケミストプラザ

  • Question

    合成・反応とは何ですか?

  • 物質を構成する原子の組み換えが起こること と言われています。
    物質の三態と言われる個体・液体・気体どうしの組み換えを言います。

  • Question

    合成・反応の目的は何ですか?

  • いくつかの目的が挙げられますが代表的な目的は下記の通りです。

    1. 自然界にある既存の物質を大量かつ安価に作ること

    既存の物質を大量かつ安価に作るため

    天然物を合成 → 安価な天然物を工業的に製造

    → 品質を均一化

    illust00

    2. 新しい物質を作ることや現状の物を改良をすること

    新素材を開発する → 樹脂、繊維、塗料など

    化学物質を開発する → 新薬、香料、高機能物質など

    3. 未知の物質がどのような過程で出来たものか構造決定を行うこと

    天然物質から得られた未知化合物と既知の反応によって得た化合物との比較

    誰にも合成されていない新しい化合物の開発や効率的な合成の条件検討

    天然物を合成 → 安価な天然物を工業的に製造

    → 品質を均一化

    illust000

    4. 未知の化合物を作り出すこと

    効率的な条件を見つけ出すために試験管サイズから三角フラスコ・なす型フラスコ・セパラブルフラスコ等さまざまな容器を使い一定の温度と撹拌条件を探りながら新しい化合物を作り出していきます。

  • Question

    合成・反応ではどのようなことに気をつけますか?

  • 合成・反応の種類により注意すべきことは異なりますが基本的に温度・撹拌は共通する項目です。

    合成・反応段階では生成物(必要なもの)の他に副生成物(余計なもの)が生成されることがあります。条件が少しでも異なると目的とする物質以外の副生成物が出来たり、量が得られなかったりします。目的とする物質が安定的に得られることを目的として安全且つ合理的に反応・合成条件検討が行われます。

    ①目的とする物質の反応方法・反応条件を検討と開発

    酸化・還元・脱水・・・など

    ②試薬の選定(安全性・価格・入手法)・添加物・触媒 の有無

    ③反応スケール(量・添加スピード・温度、撹拌、時間・・・など)

    illust01

  • Question

    合成・反応装置はどのようなものがありますか?

  • 合成・反応装置は目的となる化合物作るために最適な温度を維持管理と均一な撹拌をしながら、必要に応じて試薬の添加も行うことが出来る装置です。
    目的に応じて合成を行う反応場が液体の液相合成と合成を行う反応場が固体

    ※固体(支持担体で、反応の土台)固相合成があります。

  • Question

    液相合成・反応装置はどのようなものがありますか?

  • 簡単なものは試験管や三角フラスコをマグネチックスターラーや恒温槽につけて行う方法を指しますが、容量が大きくなると丸底フラスコ(3つ口)やセパラブルフラスコを使用します。

    illust02

  • Question

    合成・反応装置 ケミストプラザとはどのようなものですか?

  • 従来のウォーターバス・オイルバスに代わりアルミブロックによる温調を行い、強力なマグネチックスターラーを搭載し、反応や合成を行うに当たりさまざまな容量に併せて温度を一定に保ち、均一に撹拌を行う装置です。

    アルミブロックを使うことにより水やオイルを使用せずに温度管理ができます。

    illust03

  • Question

    ケミストプラザシリーズにはどのような種類がありますか?

  • 反応容量や条件により以下のような機種の選択・組み合わせが可能です。

    ホルダーまたはブロック(アダプター)を交換・追加することにより異なった容量での使用が可能です。

    CP-1000/400(旧CP-100/2000) シリーズは個別に温度調節ができます。

    CP-300/400(旧CP-2000) は温度・撹拌のプログラム制御や加圧反応まで対応でます。

    CP-300 はオプションのブロックを変更することで300℃までの高温反応や、さらには既存の丸底フラスコやなす形フラスコまでの対応も可能です。

    illust04

    ケミストプラザシリーズのラインナップ

    chemi

    本体
    型式 CP-100 CP-2000 CP-300
    反応器数 5 4 1
    温度制御(℃) -20 ~ 160 -30 ~ 200 -30 ~ 200 RT~300
    個別温調
    プログラム
    撹拌(rpm) 50 ~ 2000 50 ~ 2000 50 ~ 1500
    加圧オプションユニット
    加熱ブロック 200℃用 300℃用
    対応ブロック
    1-5mL
    1-30mL
    25-100mL
    50-200mL
    15-70mL(加圧)
    30-120mL(加圧)
    120mL
    200mL
    500mL
    1000mL
    丸底フラスコ500mL
    ナス形フラスコ
    100-500mL※
    マルチ対応
    ビーズ仕様

    ※100・200・300・500mL 専用ブロック

  • Question

    低温反応を行うときの結露対策はどうですか?

  • ブロックと保護カバーの間に不活性ガスを流すことで結露が防ぐことが出来ます。
    また乾燥ユニット(別売:DAP-10型)をご使用いただければガス準備の必要がありません。

    dap-10

  • Question

    本体のほかに必要となるものは?

  • 室温より低い温度や還流が必要な場合は低温循環水槽が必要です。またガス置換を行う場合は別途ガスをご準備ください。

  • Question

    加圧反応中に試薬の添加は可能ですか?

  • 加圧用試薬添加ユニット(特注)があります。

  • Question

    加圧条件とは?

  • 通常での加圧ユニットの使用は0.95MPaですが、19Mpaまでの耐圧試験を実施しています。

  • Question

    粘性の高いものも撹拌可能ですか?

  • 一般的なマグネチックスターラーより強力な磁石を使用していますが、CP-2000/300では上部撹拌が可能な撹拌用架台や撹拌機を用意しています。