科学機器
合成反応装置ケミストプラザ CP-400 基本セット
※通信ソフトは当社ホームページより無償でダウンロードが可能です。
特徴
●温度センサー(054310‐3004)を本体背面の接続端子へ接続することで、本体液晶に液温の表示が可能です。
●本体制御部と加熱ブロック部は独立構造のため、熱や結露水による制御部への影響をカット。
●脱着可能な冷却プレートです。本体に装着したまま、加熱ブロック部から離すことができるため、低温から高温域への反応が容易に行えます。
※室温付近や室温以下の温度に設定する場合は、別途低温循環水槽との接続が必要です。
仕様
品目コード | 054300-4001 | |
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型式 | CP-400 | |
回転設定範囲 | 100~2000rpm(水使用時) | |
温度設定 | -25~200℃※ | |
動作環境 | 5~35℃ | |
電源 | AC100V 50/60Hz 10A | |
寸法・質量 | W495×D300×H315mm(突起部含まず) 約24kg | |
付属品 | 反応容器スタンド | |
価格(税別) | 1,166,000円 | |
備考 | ※室温付近や室温以下の温度に設定する場合は、別途低温循環水槽との接続が必要です。 ※還流セット、天板セット、撹拌機等は別売りです。 |
オプション製品・スペアパーツ
動画
よくある質問
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Q.合成・反応装置ケミストプラザ
合成・反応の目的は何ですか?
いくつかの目的が挙げられますが代表的な目的は下記の通りです。
1. 自然界にある既存の物質を大量かつ安価に作ること
既存の物質を大量かつ安価に作るため
天然物を合成 → 安価な天然物を工業的に製造
→ 品質を均一化
2. 新しい物質を作ることや現状の物を改良をすること
新素材を開発する → 樹脂、繊維、塗料など
化学物質を開発する → 新薬、香料、高機能物質など
3. 未知の物質がどのような過程で出来たものか構造決定を行うこと
4. 未知の化合物を作り出すこと
効率的な条件を見つけ出すために試験管サイズから三角フラスコ・なす型フラスコ・セパラブルフラスコ等さまざまな容器を使い一定の温度と撹拌条件を探りながら新しい化合物を作り出していきます。
合成・反応装置はどのようなものがありますか?
合成・反応装置は目的となる化合物作るために最適な温度を維持管理と均一な撹拌をしながら、必要に応じて試薬の添加も行うことが出来る装置です。
目的に応じて合成を行う反応場が液体の液相合成と合成を行う反応場が固体※固体(支持担体で、反応の土台)固相合成があります。
液相合成・反応装置はどのようなものがありますか?
簡単なものは試験管や三角フラスコをマグネチックスターラーや恒温槽につけて行う方法を指しますが、容量が大きくなると丸底フラスコ(3つ口)やセパラブルフラスコを使用します。
合成・反応装置 ケミストプラザとはどのようなものですか?
従来のウォーターバス・オイルバスに代わりアルミブロックによる温調を行い、強力なマグネチックスターラーを搭載し、反応や合成を行うに当たりさまざまな容量に併せて温度を一定に保ち、均一に撹拌を行う装置です。
アルミブロックを使うことにより水やオイルを使用せずに温度管理ができます。
ケミストプラザシリーズにはどのような種類がありますか?
反応容量や条件により以下のような機種の選択・組み合わせが可能です。
ホルダーまたはブロック(アダプター)を交換・追加することにより異なった容量での使用が可能です。
CP-1000/400(旧CP-100/2000) シリーズは個別に温度調節ができます。
CP-300/400(旧CP-2000) は温度・撹拌のプログラム制御や加圧反応まで対応でます。
CP-300 はオプションのブロックを変更することで300℃までの高温反応や、さらには既存の丸底フラスコやなす形フラスコまでの対応も可能です。
ケミストプラザシリーズのラインナップ
本体 型式 CP-100 CP-2000 CP-300 反応器数 5 4 1 温度制御(℃) -20 ~ 160 -30 ~ 200 -30 ~ 200 RT~300 個別温調 ○ ○ — — — プログラム — ○ ○ ○ ○ 撹拌(rpm) 50 ~ 2000 50 ~ 2000 50 ~ 1500 加圧オプションユニット — — ○ — ○ — 加熱ブロック 200℃用 300℃用 対応ブロック 1-5mL
1-30mL○ ○ 25-100mL
50-200mL○ 15-70mL(加圧)
30-120mL(加圧)○ ○ 120mL
200mL
500mL
1000mL○ ○ 丸底フラスコ500mL ○ ナス形フラスコ
100-500mL※○ マルチ対応
ビーズ仕様○ ※100・200・300・500mL 専用ブロック
低温反応を行うときの結露対策はどうですか?
ブロックと保護カバーの間に不活性ガスを流すことで結露が防ぐことが出来ます。
また乾燥ユニット(別売:DAP-10型)をご使用いただければガス準備の必要がありません。